Dispositif multiportes - Progrès dans la technologie des transistors à l'échelle nanométrique
Fouad Sabry
Traduttore Nicholas Souplet
Casa editrice: Un Milliard De Personnes Informées [French]
Sinossi
Dispositif multiportes-Introduction aux principes et à la structure des dispositifs multiportes, explorant leur importance dans les technologies modernes des semi-conducteurs. Procédé 3 nm-Analyse détaillée du procédé 3 nm, soulignant son rôle dans la réduction de la taille des dispositifs et l'amélioration des performances. Procédé 7 nm-Exploration du procédé 7 nm, de ses avancées technologiques et de ses implications pour la mise à l'échelle des transistors. Mémoire flash à piège de charge-Examen de la technologie de mémoire flash à piège de charge, abordant son efficacité et sa pertinence dans les solutions de stockage de nouvelle génération. Transistor-Une analyse détaillée des transistors, de leur fonctionnement et de leur rôle essentiel dans le domaine de la nanoélectronique. Procédé 22 nm-Se concentre sur le procédé 22 nm et offre un aperçu de son développement et de son impact sur la conception et les performances des transistors. Transistor à effet de champ-Aborde les transistors à effet de champ (FET), leur structure et leur importance dans la nanoélectronique moderne. Procédé 2 nm-Présente le procédé 2 nm et explique comment il repousse les limites de la miniaturisation des semi-conducteurs. Procédé 45 nm-Couvre le procédé 45 nm, une étape clé dans le développement des semi-conducteurs, et son rôle dans l’amélioration des performances des puces. Procédé 90 nm-Explore le procédé 90 nm et sa contribution à l’évolutivité des dispositifs semi-conducteurs. Loi de Moore-Analyse de la loi de Moore, examinant sa pertinence actuelle et les défis qu’elle rencontre dans le contexte des tendances technologiques actuelles. Fabrication de semi-conducteurs-Présentation des méthodes de fabrication, incluant les défis et les avancées dans ce domaine. SONOS-Discussion détaillée sur la technologie SONOS (SiliconOxideNitrideOxideSilicon) et ses applications dans les mémoires non volatiles. Fujio Masuoka-Hommage à Fujio Masuoka, pionnier du développement de mémoires, mettant en avant ses contributions à la technologie des semi-conducteurs. Procédé 5 nm-Présentation du procédé 5 nm, de ses avancées par rapport aux générations précédentes et de son impact sur les performances et l’efficacité énergétique des dispositifs. Procédé 14 nm-Analyse du procédé 14 nm, de ses principales caractéristiques et de la manière dont il a permis de nouvelles avancées dans les dispositifs semi-conducteurs hautes performances. International Electron Devices Meeting-souligne l’importance de l’International Electron Devices Meeting (IEDM) pour l’avancement de la recherche sur les semi-conducteurs. Fin field effect transistor-analyse de la technologie FinFET, de ses avantages par rapport aux FET planaires traditionnels et de son impact sur la mise à l’échelle des transistors. Silicium sur isolant-aborde le concept de la technologie silicium sur isolant (SOI) et ses applications dans la création de dispositifs hautes performances et économes en énergie. Nanocircuits-explore les fondamentaux des nanocircuits, en insistant sur leur rôle dans le développement de dispositifs électroniques plus rapides et plus compacts. Circuits intégrés-analyse complète des circuits intégrés, de leur évolution et de leur rôle fondamental dans le développement de l’électronique moderne.
Disponibile da: 13/03/2025.
Lunghezza di stampa: 280 pagine.
